若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司
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詳細(xì)摘要： 微電子半導(dǎo)體清洗設(shè)備是芯片制造的核心裝備，通過化學(xué)腐蝕、物理剝離等手段，高效去除晶圓表面光刻膠殘留、金屬雜質(zhì)、顆粒及氧化物等污染物，保障晶圓達(dá)到原子級潔凈度。其...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-03-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體陶瓷基板清洗機(jī)專為高精度基板清潔打造，適配半導(dǎo)體封裝、功率器件制造等核心場景。設(shè)備融合多頻超聲波清洗、精準(zhǔn)溫控與智能藥液循環(huán)技術(shù)，可高效剝離基板表面微塵、...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-03-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司生產(chǎn)的晶圓單片式清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵裝備。它采用模塊化設(shè)計(jì)，通過機(jī)械臂自動裝載晶圓，運(yùn)用多級噴淋系統(tǒng)與兆聲波技術(shù)，能有效去除...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-01-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，通過超聲波、噴淋、化學(xué)溶液等多種方式，高效去除硅片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)及氧化層等污染物，同時確保晶片表面特性不受...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-01-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司，成立于2019年，總部位于江蘇蘇州工業(yè)園區(qū)，是一家專注于濕法刻蝕設(shè)備研發(fā)與制造的企業(yè)。作為國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的重要參與者，公司...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-01-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體硅片單片清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于高精密清洗的關(guān)鍵設(shè)備，專為清除硅片表面顆粒、有機(jī)物、金屬離子及氧化層等污染物而設(shè)計(jì)。該設(shè)備融合化學(xué)溶液（如SC-1、DH...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-01-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 自動襯底去除清洗機(jī)是一種高效、智能化的半導(dǎo)體制造設(shè)備，專用于精確剝離晶圓或其他材料表面的襯底層。它采用化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨相結(jié)合的方式，通過精密控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)自動化...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片清洗機(jī)臺是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，通過化學(xué)溶液或超純水對晶圓進(jìn)行單片處理，結(jié)合超聲波、噴淋等技術(shù)實(shí)現(xiàn)微粒和污染物的高效去除。其模塊化設(shè)計(jì)支持多種工藝配置，滿...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法刻蝕清洗一體機(jī)是一種將濕法刻蝕與清洗功能集成的半導(dǎo)體制造設(shè)備。它通過化學(xué)溶液實(shí)現(xiàn)材料的選擇性去除，利用噴淋系統(tǒng)和溫控單元確保反應(yīng)均勻性和精度。該設(shè)備支持終點(diǎn)...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司是一家專注于半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備和刻蝕設(shè)備的高科技企業(yè)，總部位于蘇州工業(yè)園區(qū)納米城。公司以單片濕法清洗機(jī)為核心產(chǎn)品，采用化學(xué)與物理...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動晶圓腐蝕機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，通過精準(zhǔn)控制化學(xué)溶液的溫度、濃度與流動狀態(tài)，對晶圓表面進(jìn)行各向異性或選擇性腐蝕，形成電路所需的微觀結(jié)構(gòu)。其集成自動化上...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 芯片濕法清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)溶液（如SPM、SC-1/2）結(jié)合超聲波/兆聲波技術(shù)，高效去除晶圓表面顆粒、光刻膠殘留及金屬雜質(zhì)。其精準(zhǔn)溫控與藥...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體預(yù)清洗機(jī)是晶圓制造前道工序的核心設(shè)備，通過物理沖洗、化學(xué)浸泡及超聲波/兆聲波輔助技術(shù)，高效去除硅片表面顆粒、有機(jī)物和金屬雜質(zhì)。其采用模塊化設(shè)計(jì)，支持多種藥...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體濕制程設(shè)備是集成電路制造中用于化學(xué)清洗、蝕刻和表面處理的核心裝備，通過精準(zhǔn)控制藥液配比（如SPM、SC-1/2等）與物理作用（超聲波/兆聲波），實(shí)現(xiàn)晶圓表...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體超聲波清洗設(shè)備采用高頻聲波空化效應(yīng)，高效去除晶圓表面顆粒、光刻膠及金屬離子，兼容多種化學(xué)藥液（如SPM、SC-1）。通過智能溫控與多頻段可調(diào)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)亞微...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備是利用化學(xué)溶液與物理作用協(xié)同清除晶圓表面污染物的關(guān)鍵裝備。其通過超聲波、兆聲波或高壓噴淋技術(shù)剝離顆粒、光刻膠及金屬離子，結(jié)合SPM（硫酸-*）...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片濕法刻蝕清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，通過化學(xué)溶液動態(tài)噴淋與高頻超聲波協(xié)同作用，實(shí)現(xiàn)晶圓表面材料的原子級精準(zhǔn)去除。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，集成智能溫控系統(tǒng)和實(shí)時...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體單片濕法清洗設(shè)備是芯片制造中保障晶圓表面潔凈度的核心裝備，通過化學(xué)溶液反應(yīng)與物理強(qiáng)化技術(shù)（如超聲波、兆聲波）協(xié)同作用，精準(zhǔn)去除顆粒、有機(jī)物及金屬離子等污染...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備，通過超聲波、高壓噴淋、化學(xué)溶液等手段去除晶圓表面污染物（顆粒、有機(jī)物、金屬離子等），確保芯片性能與良率。設(shè)備支持全自動...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片濕法刻蝕清洗設(shè)備通過精準(zhǔn)噴淋化學(xué)藥液實(shí)現(xiàn)晶圓級材料的選擇性去除與表面清潔，采用高純度介質(zhì)供給系統(tǒng)（≤0.2μm過濾精度）和快速旋轉(zhuǎn)干燥技術(shù)，支持8-12英寸...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-12-09 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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